檢索結果：共36筆資料 檢索策略： "自動化及控制研究所".dept (精準) and cadvisor.raw="郭鴻飛"
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在記憶體DRAM製造的過程中，透過微影製程技術將設計之光罩轉印至光阻為一項至關重要的技術，但隨著線寬持續微縮，193nm浸潤式微影製程上達到物理極限，必須透過解析度增強技術(Resolution E…
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微影製程是半導體產業不斷前進的重要技術，透過將微縮線路用光學投影在晶圓上，將特徵尺寸不斷縮小，而數位微影製程捨棄了對光罩的使用，能透過如數位微反射鏡(Digital Micromirror Devi…
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隨著科技近代之發展，為求在越加縮減面積的晶片上實現更強大的功能，除電路本身之微縮技術需逐步改進之外，將電路設計往立體化發展亦是新的發展思路。電路於立體化發展前，線路本身即已藉由大量的微影製程所構成，…
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以光點陣列掃描 (Point Array Scanning) 成像的數位微影系統，使用數位微反射鏡裝置(Digital Micromirror Device, DMD)作為產生光點陣列的元件，透過控…
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在半導體製程中，先進封裝(Advanced Package, AP)被視為持續摩爾定律的辦法之一，使用不同功能之晶片將其進行堆疊，並使用先進封裝可以得到較小的元件尺寸，本文將研究探討數位微影曝光系統…
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印刷電路板(Printed circuit board, PCB)在電子工業佔著舉足輕重的地位，在先進檢測中，基於機器視覺的自動化光學檢測（Automated Optical Inspection,…
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印刷電路板（Printed Circuit Board, PCB）在所有的電子產品中用來將所有功能不同的積體電路及電子元件以一條條細細的銅導線連接起來，以提供穩定的工作環境，讓電子訊號可以在不同的電…
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在各國因應物聯網、大數據、高效能運算等的市場開發，仰賴大量DRAM 元件所需要大量計算及記憶體空間，隨著對DRAM 的需求增加和引入升級產品的需求，DRAM 市場將在未來幾年見證增長，全球市場競爭激…
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由於極紫外光微影系統技術開發上仍有困難，無法立即取代現有生產線上ArF-193nm浸潤式微影系統微影製程生產，因此吸引許多研究者尋找改善方案，其中可利用光源光罩最佳化程序搜尋最佳的光罩圖案設計與對應…
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雷射直寫技術之於黃光微影製程的優勢是無需光罩，而以雷射光束聚焦在光阻上直接定義電路圖案，對此一個基於雙軸振鏡的雷射掃描系統，能夠將數十微米的聚焦光點快速定位在曝光面的任意處，不過掃描過程中存在像場變…